“咱们国家目前的情况是——”
会议室里，项目总工程师钟宏正跟大家详细介绍国内目前的光刻机技术。
“28n已经研发成功，今年量产。不过实验室现在已经有22n光刻技术的研究成果，但能不能投入使用，还要经过一段时间的试验。”
坐在投影幕布对面、会议长桌主位上的蒋凡晞在资料册上写下备注“28n可量产，22n待定。”
钟宏继续发言“目前，能做5n光刻机的只有荷兰那家，它的技术是euv极紫外线，用的是135n波长的光源，这是突破10n芯片制程节点必不可少的工具。”
有人附议“他们euv极紫外线的光源也是找美国进口。”
蒋凡晞点点头，在资料册上简单备注后，总结道“意思就是——即使我们有euv技术，但也不一定能进口到最佳光源。要彻底解决这个问题，只能是完全摒弃euv技术，另辟蹊径，寻找其他替代性的技术。”
“是这样没错。其实70年代咱们就已经有制造光刻机的经验了，经验是很充足的，但低纳米技术的光刻机为何迟迟做不出来？就是卡在这里！什么时候突破这个节点，咱们就不必再被人卡着脖子了。”
钟宏笑说“与其说咱们在研发5n光刻机，倒不如说研发替代euv的新型光源技术。说研发光刻机听上去太难太累，那么大一台机子，压在心口上喘不过气啊是不是？咱们说研发一个什么技术，那听上去就轻松多了，是吧？所以大家放松点，咱们可以的！”
大伙都笑了，会议室里响动着年轻的笑声，原本严肃的气氛轻松了不少。
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